CVD (Chemical Vapor Deposition)

CVD 는 Chemical Vapor Deposition의 약자로서 Heat,Photon등의  외부에너지를 통해
원료기체를 활성화 시켜 target에 흘려주어  화학적 기상 반응에 의해 박막을 형성하는 기술입니다.

반응기로 주입된 원료 기체가 외부에너지에 의해 분해된 후 활성화 된 반응가스는 기판 표면위로 이동합니다.
화학반응에 의해 기판 표면에 반응가스가 확산되어 표면에 흡착하여 막을 형성합니다.
이때 반응 중 생성된 부산물은 밖으로 배출이 되어 이물질이 유입이 되지 않습니다.

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